问题——在微纳尺度构建精细结构，光刻长期被视为关键工艺。传统光刻依赖掩模版将电路图形一次性转移至基板，但掩模制作涉及设计、加工、检测、维护等多个环节，不仅成本高、周期长，一旦定版后修改代价巨大。对研发机构和创新企业而言，频繁迭代的试验需求与掩模工艺的"慢、贵、难改"形成矛盾，成为原型验证、工艺开发和小批量生产的主要瓶颈。
从物理掩模到数字图形的跨越，不仅是技术路径的革新，更是制造思维的升级；无掩模光刻系统所代表的柔性制造模式正在重新定义微纳尺度下的创新边界。在全球科技竞争日益聚焦底层技术的今天，此类基础性工具的突破有望孕育出产业变革，其影响值得持续关注。